过剩施主浓度检测摘要:过剩施主浓度检测是半导体材料及器件质量控制的核心环节,通过精准测定载流子浓度、迁移率等关键参数,评估材料电学性能与掺杂均匀性。本文系统阐述检测项目、适用范围、标准化方法及专用设备配置,为科研机构与生产企业提供技术参考。
参考周期:常规试验7-15工作日,加急试验5个工作日。
注意:因业务调整,暂不接受个人委托测试,望谅解(高校、研究所等性质的个人除外)。
1.载流子浓度(n/p):测量范围1E12~1E20cm⁻,精度3%
2.迁移率(μ):测试范围10~15000cm/(Vs),温度条件77K~300K
3.电阻率(ρ):量程0.001~100Ωcm,四探针法1%重复性
4.载流子寿命(τ):时间分辨率0.1ns~10ms,微波光电导衰减法
5.掺杂浓度分布(Nd/Na):纵向分辨率≤5nm,二次离子质谱深度剖析
1.半导体单晶材料:硅(Si)、砷化镓(GaAs)、磷化铟(InP)单晶片
2.光伏材料:多晶硅锭、CIGS薄膜太阳能电池吸收层
3.电子器件:MOSFET沟道区、IGBT基区掺杂层
4.化合物半导体:氮化镓(GaN)外延层、碳化硅(SiC)衬底
5.纳米电子材料:石墨烯异质结、量子点发光层
1.霍尔效应法:ASTMF76-08(2020)、GB/T1550-2018半导体导电类型判定
2.四探针法:GB/T1551-2009硅单晶电阻率测定
3.二次离子质谱(SIMS):ISO17560:2014深度剖析、GB/T32281-2015半导体杂质分析
4.电容-电压法(C-V):ASTMF1392-00(2020)载流子浓度测试
5.光致发光谱(PL):ISO23125:2019半导体缺陷表征
1.Keithley4200A-SCS参数分析仪:支持AC/DC霍尔效应测量与C-V特性分析
2.AccentHL5500PC霍尔测试系统:配备0.55T永磁体与液氮杜瓦低温组件
3.FourDimensions280SI四探针系统:自动压力控制探头(10g~500g可调)
4.PHInanoTOFII飞行时间二次离子质谱仪:质量分辨率>15,000@m/z=29
5.AgilentB1500A半导体器件分析仪:1μHz~1MHz宽频C-V特性测试模块
6.HoribaLabRAMHREvolution显微拉曼光谱仪:配备325nm/532nm/785nm多波长激光源
7.ThermoScientificiCAPRQICP-MS:检出限<0.1ppt的痕量掺杂元素分析
8.OxfordInstrumentsVersaProbeXPS:空间分辨率<7.5μm的表面化学态分析
9.SemilabWT-2000少子寿命测试仪:微波反射式非接触测量模式
10.BrukerDimensionIcon原子力显微镜:PeakForceTapping模式表面形貌表征
报告:可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。
检测周期:7~15工作日,可加急。
资质:旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。
标准测试:严格按国标/行标/企标/国际标准检测。
非标测试:支持定制化试验方案。
售后:报告终身可查,工程师1v1服务。
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